研究費助成関係
最終更新日：2022年03月23日(水) 15時37分
国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO)
令和4年度次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発
一企業では困難な、ファインセラミックスの一連の工程を対象とした製造プロセス技術と計算科学の融合・連携により、次世代のファインセラミックスのプロセス基盤技術を確立するとともに、企業における実用化を支援します。
分野
理工学
対象
常勤
金額
50万未満 , 50万～100万未満 , 100万～200万未満 , 200万～500万未満 , 500万～2千万未満 , 2千万～5千万未満 , 5千万～2億未満 , 2億以上
提出期限
2022年04月14日
正午（Web及びe-Rad）
学内締切
2022年03月31日
※提案書を担当までご提出ください。準備中の場合はご相談ください。
注意事項
注１：学内における申請期限厳守でお願い致します。準備中の場合はご相談ください。
注２：他機関等との連携が必要な場合は、準備資料の確認等がございますので、
事前に担当までご連絡下さい。
注３：本メール掲載情報は、公募要領等から抜粋・編集しております。
詳細は、配分機関HP及び公募要領にて必ずご確認下さい。
内容
（１）革新的プロセス開発基盤の構築（委託事業）
（２）革新的プロセス開発基盤の応用開発（助成事業）
２．概要
期間：（１）最長5年間
（２）3年間
金額：2022年度から2026年度までの事業規模：最大15億9,000万円／年
※（２）の助成率：1/2又は2/3
関連リンク
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情報発信元
産学官連携本部研究企画・管理部
内線番号：2057、2842、2847
